本底有机污染对高级氧化联用技术去除饮用水中内分泌干扰物—DMP的影响
论文类型 | 技术与工程 | 发表日期 | 2005-09-01 |
来源 | 饮用水安全保障技术与管理国际研讨会 | ||
作者 | 芮曼,徐斌,高乃云,张巧丽,赵建夫,乐林 | ||
关键词 | 饮用水 邻苯二甲酸二甲酯 高级氧化 腐殖酸 副产物 | ||
摘要 | 本文使用腐殖酸模拟本底天然有机物进行试验,采用UV—H2O2、O3、UV-O3三种高级氧化工艺,研究了本底有机污染对三种高级氧化联用技术去除饮用水中内分泌干扰物-DMP的影响。研究表明本底有机物对UV-H2O2联用工艺氧化DMP的影响非常大,特别是在低浓度本底条件下;对于衡量水中有机物的两种指标UV254与TOC,选择TOC作为UV—H2O2联用工艺中衡量本底有机物污染指标考察对DMP去除的影响比较合适。腐殖酸的存在对O3氧化DMP的影响比较复杂,试验中本底TOC为2.332mg/L时O3氧化DMP的效果 |
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